设备用途：用于大规模集成电路、电力电子、光电器件、光导纤维等行业的氧化、扩散、烧结、合金等工艺。 

设备特点：单元组合方式。根据工艺的不同，可以在主机的基础上配气源柜、超净工作台、悬臂推拉舟等。    

主要技术指标： 炉管数：1～4管

 配工艺管口径：Φ90～360 mm (3～12英寸)

 恒温区长度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃)  760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

 单点稳定性： ±1.0℃/24h (300～800℃)    ±0.5℃/24h (800～1280℃)

 气源路数：   ≤7路，可配恒温源瓶、氢氧合成点火器

 气体控制：    浮子/质量流量计

 悬臂舟参数：  速度：    20～1000 mm/min    

           行程：2000 mm    

           定位精度：±1 mm    

           载荷：17 Kg

 超净工作台：  净化等级：100级（万级厂房）

           噪音：    ≤62dB（A）

           振动：    ≤3μm